EUV-Lithographie – Chipfertigung mit extrem ultraviolettem Licht

Ohne Rechenleistung keine Digitalisierung: Heute hat allein ein Smartphone die millionenfache Rechenpower des Computers, der 1969 die erste Mondlandung begleitete. Ermöglicht wird dies durch einen kaum fingernagelgroßen Mikrochip, auf dem sich mehr als zehn Milliarden Transistoren befinden. Neue Technologien wie Künstliche Intelligenz, autonomes Fahren, 5G, Smart Home oder Industrie 4.0 benötigen nochmals deutlich leistungsfähigere Mikrochips. Möglich werden diese durch ein neues Herstellungsverfahren, das die Grenzen der Optik verschiebt und einige Superlative vereint: die EUV-Lithographie, die Chipfertigung mit extrem ultraviolettem Licht. Für seinen maßgeblichen Beitrag an der Entwicklung des Verfahrens ist das Fraunhofer IOF zusammen mit der ZEISS AG und der Trumpf AG für den Deutschen Zukunftspreis 2020 nominiert. Veröffentlicht: November 2020